مشخصات کوره رشد اکسید و نفوذ

تعداد رای : ۱
نیاز به نصب, راه اندازی و آموزش دارد

کد محصول

5842

نوع محصول

لایه‌نشانی تبخیر حرارتی - Thermal Evaporation - -

مدل

PC200

سقف قیمت مجاز

ابتدا یا وارد کارتابل خود شده و یا در صورتی که هنوز در سامانه ثبت نام ننموده اید اقدام به ثبت نام کاربری جدید نمایید

سطح حمایتی

سطح دوم

اجازه فروش لیزینگ

ندارد

کاربرد/دامنه کاربرد

رشد اکسید سیلیکون بر روی بستر سیلیکون در دمای ۱۱۰۰ درجه

گالری تصاویر

تولید کنندگان مشابه بر اساس نوع محصول