33638
رسوب شیمیایی بخار به کمک پلاسما - Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition - PECVD
(40/60-70/100)twin chamber
ابتدا یا وارد کارتابل خود شده و یا در صورتی که هنوز در سامانه ثبت نام ننموده اید اقدام به ثبت نام کاربری جدید نمایید
سطح اول
دارد
نیتراسیون پلاسمایی-لایه نشانی پوشش های نانو ساختار فوق سخت در دو محفظه کندو پاش