5842
لایه‌نشانی تبخیر حرارتی - Thermal Evaporation - -
PC200
شرکت رشد نانو فناوران
ابتدا یا وارد کارتابل خود شده و یا در صورتی که هنوز در سامانه ثبت نام ننموده اید اقدام به ثبت نام کاربری جدید نمایید
سطح دوم
ندارد
رشد اکسید سیلیکون بر روی بستر سیلیکون در دمای ۱۱۰۰ درجه
کاتالوگ محصولشرایط گارانتی شرایط محیطی لازم برای نصب و راهاندازی و نگهداری