115
رسوب شیمیایی بخار به کمک پلاسما - Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition - PECVD
SI_802
ابتدا یا وارد کارتابل خود شده و یا در صورتی که هنوز در سامانه ثبت نام ننموده اید اقدام به ثبت نام کاربری جدید نمایید
سطح اول
دارد
برای رشد CNTبر روی بستر سیلیکان