15784
زدایش بازفعال یونی - Reactive Ion Etching - RIE
p100-si
شرکت رشد نانو فناوران
-
دارد
این دستگاه برای تمیز کاری به کمک پلاسما برای سطوح مختلف استقاده می شود که در آن از گاز اکسیزن استفاده می شود.
کاتالوگ محصولشرایط گارانتی شرایط محیطی لازم برای نصب و راهاندازی و نگهداری