5842
لایهنشانی تبخیر حرارتی - Thermal Evaporation - -
PC200
شرکت رشد نانو فناوران
-
دارد
رشد اکسید سیلیکون بر روی بستر سیلیکون در دمای ۱۱۰۰ درجه
کاتالوگ محصولشرایط گارانتی شرایط محیطی لازم برای نصب و راهاندازی و نگهداری