کوره رشد اکسید و نفوذ

نیاز به نصب, راه اندازی و آموزش دارد

کد محصول

5842

نوع محصول

لایه‌نشانی تبخیر حرارتی - Thermal Evaporation - -

مدل

PC200

سقف قیمت مجاز

-

اجازه فروش لیزینگ

دارد

کاربرد/دامنه کاربرد

رشد اکسید سیلیکون بر روی بستر سیلیکون در دمای ۱۱۰۰ درجه

گالری تصاویر

تولید کنندگان مشابه بر اساس نوع محصول