115
رسوب شیمیایی بخار به کمک پلاسما - Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition - PECVD
SI_802
شرکت رشد نانو فناوران
-
دارد
برای رشد CNTبر روی بستر سیلیکان
کاتالوگ محصولشرایط گارانتی شرایط محیطی لازم برای نصب و راهاندازی و نگهداری